反应离子镀锡-铟氧化物薄膜
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Reactive Ion-Plating Tin-Indium Oxide Thin Film
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    摘要:

    本文着重阐述了离子镀锡——铟氧化物的原理,主要技术条件及其相互关系,最佳技术条件的选择与控制。还介绍了离子镀锡一铟氧化物的实验结果。

    Abstract:

    This paper emphatically relates the principle of ion-plating tin-indium Oxide thin film,the primal specifications and the relationship between them,as well as the selection and the control of the optimum specifications. And then experimental results of the reactive ion-plating tin-indium oxide are introduced.

    参考文献
    相似文献
    引证文献
引用本文

金昭廷,谢淑云,彭传才.反应离子镀锡-铟氧化物薄膜[J].国防科技大学学报,1982,(2):65-69.
Jin Zhaoting, Xie Shuyun, Peng Chuancai. Reactive Ion-Plating Tin-Indium Oxide Thin Film[J]. Journal of National University of Defense Technology,1982,(2):65-69.

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  • 收稿日期:1982-02-13
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  • 在线发布日期: 2017-08-18
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